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仪器设备名称:
金属真空镀膜仪
图片:
仪器型号:
Nexdep
仪器厂商(国别):
加拿大 Angstrom Engineering Inc.
仪器原值:
97.397万元
购置日期:
2017.9
仪器主要附件:
腔室内带有4个金属热蒸发源,2个电源,电源功率为2.5kw;
系统带有电脑控制的 Aeres镀膜控制系统,带有2个晶振探头,传感器固定在刚性的支架上,并带有水冷系统以提高读数的准确性
机组所在部门
联系电话:
7321com必赢
0531-82767046
仪器现状:
正常
开放机时安排:
提前预约
主要技术指标:
5.1系统安装有4个热阻蒸发源;
*5.2蒸发速率自动控制和手动控制同时具备,控制精度:0.01 Å/s;薄膜误差小于5%。
*5.3可以实现1个热阻和1个热阻间的共蒸
*5.4 RADAK的温控范围不小于0-1500 oC,能实现自动温度控制蒸镀功能;
5.5蒸发源与样品台的距离在300 -400 mm之间;
5.6蒸发源之间有隔离装置,要有效防止交叉污染;
5.7安装有4个独立的气动蒸发源挡板;
5.8安装有1个气动样品台挡板;
应用范围/服务内容:
半导体器件的加工与性能测试,金属电极的制备
服务技术领域:
纳米材料,微纳器件 FET器件的制备
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